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在半導體制造的CVD、ALD、ETCH等等核心制程中，微納米級粉塵的產(chǎn)生幾乎不可避免。這些粉塵來自于工藝反應的固態(tài)副產(chǎn)物，或者是設備部件磨損的碎屑，常與腐蝕性氣體混合，看似微小，卻會引發(fā)全產(chǎn)線的“堵塞危機"。從主機臺腔體、真空管道到尾氣處理系統(tǒng)，都可能成為粉塵堆積的重災區(qū)。
-粉塵堵塞問題-
• 需要頻繁停機清潔管路，增加運維成本
• 常與腐蝕性氣體結(jié)合，加速設備與零件磨損
• 制程腔內(nèi)受到污染，拉低產(chǎn)品良率
• 粉塵堆積-設備磨損-更多粉塵-更頻繁維護
全鏈路粉塵問題解決方案Total Solution
CVD/ALD/Dry Etch/EPI等制程設備
? 真空閥門、腔體的客制化設計與生產(chǎn)
? 真空管路設計及零配件的全鏈路供應
? Cyclone/Cold Trap粉塵分離器供應
? 減少反應腔粉塵顆粒污染
真空泵服務
? Pump防腐抗粘黏涂層WEH®涂裝
? Fore Line管道優(yōu)化涂層WEH®涂裝
? 24/7 真空泵閥全天候維修中心
? 全新泵/二手泵閥買賣維修服務
真空泵到日揚Wet SCR
? 排氣管道工程設計與制造安裝
? 零部件涂裝防粘防腐涂層WEH®
? 微氣泡負壓型Wet Scrubber減少堵塞
日揚Wet SCR到Burn SCR
? 管道工程設計與制造安裝
? 管道外節(jié)能加熱帶HIM系統(tǒng)
? 管道內(nèi)耐高溫防腐涂層WEH®
? 負壓增強器P2A-PVC/PTFE,增大吸力
防堵塞核心：WEH®涂層和Wet SCR設備
微氣泡負壓型濕式除塵器（wet Scrubber）高達-25kpa吸力可抽取fore line管路的粉塵避免積壓，設備中高達95%的粉塵去除率可緩解后端管路堵塞難題，保證Burn SCR的正常運行。
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微氣泡負壓型Wet SCR
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解決Dry Pump、Pump Line、Scrubber和排氣主管道的粉塵阻塞問題，粉塵去除率高達95%，延長PM周期實現(xiàn)zui you稼動率
—M600型號Wet SCR介紹—
—Wet SCR排氣濕度監(jiān)測—
WEH®涂層負責緩解真空泵以及管路中的粉塵粘黏和腐蝕問題，配合加熱帶的使用讓涂層性能更優(yōu)，從已驗證的大廠案例中看，普遍能延長堵塞周期2-40倍，節(jié)省大筆維保費用。
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真空納米涂層WEH®和NFH®
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該涂層有著良好的疏水性、耐溫性、抗腐蝕性以及高硬度、低粗糙度的優(yōu)點，可以提高零件的使用壽命，降低管道堵塞風險。NFH®為不含氟版本。
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—WEH®涂層介紹—
—WEH®涂層實驗室—
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